プロセスシミュレーション

半導体ドライエッチング工程解析用３次元形状シミュレータ

K-SPEED

半導体およびディスプレイ工程におけるエッチングおよび蒸着工程の物理化学的現象を再現し、現場で使われる工程変数による半導体構造の３次元形状をシミュレーション
Void, Etch stop, Polymer passivation effect, Etch rateなどの現象を予測
GPU並列によりイオン・中性種の輸送計算を高速化

■アプリケーション

プラズマ表面化学反応グローバルシミュレータ

K-0DPLAZMA

半導体およびディスプレイ製造向けプラズマ発生装置の解析
最適の工程変数の算出および実験での測定が難しい物理量の予測
バルクプラズマと表面の相互作用を解析（シース解析）